专利摘要:本申请公开一种黑矩阵结构及其制造方法、显示基板、显示装置,属于显示技术领域。该黑矩阵结构包括交叉的多个黑矩阵条,该黑矩阵条的侧面的粗糙度小于2微米,该黑矩阵条的侧面与参考平面相交,该参考平面与该多个黑矩阵条交叉限定的平面平行。本申请提供的黑矩阵结构中黑矩阵条的侧面的粗糙度较小,能够适用于分辨率要求较高的显示装置。
今年以来京东方A新获得专利授权3230个,较去年同期增加了46.02%。结合公司2023年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了52.67亿元,同比减1.77%。
数据来源:企查查
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